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世界で初めての12.1型大型低温ポリシリコン液晶表示装置の開発について

1997年10月1日

 当社は、高精細化への対応とともに部品点数の削減による信頼性向上が図れる次世代の液晶表示装置(LCD)として、 12.1型(対角31センチメートル)、1024X768画素(XGA)と大型・高精細な画面を実現した低温ポリシリコンLCDを開発しました。
 12.1型という大画面を持ち、量産可能な低温ポリシリコンLCDの開発は世界で初めてです。

 今回開発した低温ポリシリコンLCDは、基板がシリコン多結晶で形成されているもので、 従来からのアモルファス(非晶質)シリコンに比べ電子の移動度が高く、 液晶画面を制御する周辺回路を外付けすることなく基板上に直接形成することができるという特長を有しています。 このため、部品点数を従来に比べ約40%、接続ピン数では約20分の1に削減でき、 製品信頼性の向上が図れます。
 また、周辺回路の基板上への直接形成により、配線間隔を微細化できるため、 今後さらに進む画面の高精細化への対応が容易です。

 当社は、従来からのアモルファスシリコンLCDの生産に付加する工程数を抑えることによって、 次世代の低温ポリシリコンLCDの量産化を可能にしました。

 当社は、97年4月にLCDの最先端の研究開発を行う「液晶開発センター」を深谷電子工場内に設置するとともに、 低温ポリシリコンLCDの試作、量産技術の検証などを行う量産試作ラインを97年7月から稼働させています。

 今回さらに、次世代LCDの量産ラインを深谷電子工場(工場長:下間 武敏(しもま たけとし)埼玉県深谷市幡羅町1−9−2)内に導入します。 量産ラインを導入する新しいクリーンルームの建設は本年11月から着工し、 98年末から稼働する計画です。

新製品の主な仕様


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