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世界初の大形低温ポリシリコン液晶量産製造棟の竣工について

1999年6月18日

 当社は、深谷工場(所在地:埼玉県深谷市幡羅町1−9−2 工場長:上田 実)において、 低温ポリシリコン大形液晶表示装置の量産製造棟の建設、 立上げを進めてまいりましたが、このたび量産体制が確立し、本日、竣工式を行いました。

 新製造棟は、97年11月に着工、98年8月末には建屋が完成し、 以後生産ラインの構築、立上げを進め、今年4月から稼動を開始していました。
 今回竣工したのは、第1期量産ラインとなり、 製造棟の約4分の1を使って本格量産体制に入りました。 本製造棟のガラス基板投入能力は、月産1万枚(基板面積:400X500mm)です。 すでに稼動している量産試作ラインとあわせると、 深谷工場全体としての投入能力は月産2万枚となります。
 なお、今秋には、製造棟内に第2期ラインが立ち上がる予定です。

 新工場は、延床面積が約28,800平方メートルの地上3階建、 組立工程を行うクリーンルームを備え、最新の生産ラインを構築しています。 現在までの投資額は建設費、設備費を含めて約300億円です。

 低温ポリシリコン液晶は、基板がシリコン多結晶で形成されているもので、 従来のアモルファス(非晶質)液晶に比べると、 液晶画面を制御する周辺回路を基板上に直接形成でき配線間隔を微細化できるため、 より高精細な画面作りが可能となります。 また、同様の理由により、部品点数で従来比40%、接続ピン数で約20分の1に削減できるため、 軽量かつ製品信頼性の向上がはかられます。 大形の低温ポリシリコン液晶の開発は、当社が世界に先駆けて成功したもので、 これらの3つの特長により、 特にノートパソコンやPDAなどのような個人情報携帯端末やカーナビなどに最適なディスプレイです。

 当社の液晶事業の特長は、(1)アモルファス液晶については、 当社と米国IBMの共同出資によるディスプレイ・テクノロジー株式会社(所在地:姫路市)から液晶セルとして供給を受ける一方、 (2)低温ポリシリコン液晶については、97年から独自に研究開発に取り組み、 研究・開発から生産まで一貫体制を確立して事業化に取り組んでいます。 当社は、今後も引き続き、低温ポリシリコン液晶の開発・生産に資源を集中し、 その特長を生かした用途開発と製品群のラインアップ拡充に努めていきます。

 モバイル時代の到来と多様化する液晶表示装置の用途の拡大に対応して、 当社は深谷工場から世界に向けて魅力ある液晶製品を供給していくことで、 微力ながらも、当地の発展・振興に寄与できるものと確信しています。

新製造棟の概要
名称NCR棟(601号棟)
建物規模地上3階、地下なし、高さ22.8m
構造概要地上主体構造−鉄骨造
建築面積9,567m
延床面積28,761m
着工1997年11月
建物完成1998年 8月
稼動開始1999年 4月

深谷工場の概要
敷地面積約288,000m
建築面積約129,000m
従業員数約3,000人
工場長名上田 実
開発生産品液晶表示装置、カラーブラウン管、カラーディスプレイ管、
大形映像システム、デジタルカメラ、テレビ、衛星放送受信機など

*深谷工場には、(1)ディスプレイ・部品材料社が所管する深谷工場と、 (2)デジタル・メディア機器社が所管する深谷映像工場があります。 両工場を総称して深谷工場と呼称しています。


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