プレスリリース (1999.12.2-2)1 | ニュース

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基本合意の内容

　本日、両社で基本合意した内容は次の通りです。

製造合弁会社の設立について
２０００年３月を目途に、両社共同出資による製造合弁会社を設立します。東芝は、現有するフォトマスク製造部門を製造合弁会社に移管し、今後３年間は新会社で作られたフォトマスクは大日本印刷を通じて全量東芝へ供給されることとなります。
共同開発について
両社は、２０００年３月より０．１３μｍ以下の次世代の超微細フォトマスク製造に関する技術を共同で開発していきます。
既存マスク技術のライセンス供与
現在東芝が有する最先端のフォトマスク技術（０．１５μｍクラス）を大日本印刷にライセンス供与します。大日本印刷は、同技術を独自にフォトマスク製造へ活用し、販売することでマスク事業全体の強化を図っていきます。

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