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半導体フォトマスク製造合弁会社の設立について

2000年3月1日

大日本印刷株式会社
株式会社 東芝

 大日本印刷株式会社(本社:東京都新宿区、代表者:取締役社長 北島義俊) と株式会社東芝(本社:東京都港区、代表者:取締役社長 西室泰三)は、 両社出資による半導体フォトマスク製造合弁会社を3月15日付けで設立し、 4月1日から稼動を開始します。新会社で作られたフォトマスクは今後3年間、 大日本印刷を通じて全量東芝へ供給されることとなります。
フォトマスク:ウェーハなどの上に素子や回路パターンを形成するときに用いる原版。

 新会社の設立は、1999年12月2日に両社間で交わされた基本合意書に基づくものです。 半導体プロセス技術の微細化の進展とともに今後もますます重要性が増してくるフォトマスク分野において、 東芝のもつ微細化技術などの最先端フォトマスク技術と大日本印刷のもつ量産化技術を相互に活用することで、 技術開発から量産、販売に至る総合的優位性を両社の協力により確立することをめざしたものです。

 今回設立する新会社の概要は以下のとおりです。

 
社 名 :ディー・ティー・ファインエレクトロニクス株式会社
本 社 :神奈川県川崎市幸区小向東芝町1
((株)東芝 マイクロエレクトロニクスセンター内)
資本金 :4億9000万円
出資比率:大日本印刷65% 東芝35%
代表者 :代表取締役会長(非常勤) 中川善行(なかがわ・よしゆき)
(現 大日本印刷 取締役 半導体製品事業部長)
代表取締役社長 上野三彦(うえの・みつひこ)
(現 東芝 セミコンダクター社 社長附)
従業員数:約220人(東芝:約210名/大日本印刷:若干名)
製造拠点:(株)東芝 マイクロエレクトロニクスセンター内
岩手東芝エレクトロニクス株式会社内(北上市)

基本合意書のその他の内容

  • 共同開発
    両社は、0.13μm以下の次世代の 超微細フォトマスク製造に関する技術を共同で開発します。
  • 既存マスク技術のライセンス供与
    現在東芝が有する最先端のフォトマスク技術(0.15μmクラス)を 大日本印刷にライセンス供与します。大日本印刷は、同技術を独自にフォトマスク製造へ活用し、 販売することでマスク事業全体の強化を図っていきます。


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