東芝トップページ お問い合わせ
新着情報  発表月別  テーマ別
中国における研究開発拠点の設立について

2001年5月28日

基盤技術開発のグローバル展開を推進

 当社は、IT分野における基盤技術の研究開発強化などを目的として、中国に研究開発拠点を本年10月に設立します。
 当社の基盤技術に関する研究開発拠点としましては、日本、アメリカ、欧州に次ぐもので、グローバル展開の一環として中国に新たな拠点を設けます。

 当社は中国での拠点設立によって世界4極体制で研究開発を推し進めます。

 中国の研究開発拠点における主な研究開発テーマは、(1)中国語音声認識・合成技術、(2)中国語機械翻訳技術、(3)次世代IT応用プラットフォームなどで、設立当初は、中国人研究者を中心に約20名の人員規模でスタートする予定です。
 また、研究方法として、研究開発拠点での研究に加え、清華大学、北京大学などの中国国内の大学への委託研究を併せて行います。

 当社の研究開発は、特に主要な事業戦略分野であるモバイルおよびネットワークに関する基盤技術に注力しています。 今後IT市場が急拡大すると予想される中国に新たな研究開発拠点を設立し、言語(中国語)関連の基盤技術などを中心とした研究開発を行うことによって、中国市場における当社のIT事業の拡大を目指します。

研究開発拠点の概要

名  称東芝(中国)有限公司 研究開発センター(仮)
場  所北京市
設立時期2001年10月
人  員約20名


プレスリリース記載の情報(製品価格/仕様、サービスの内容、お問い合わせ先、URL等)は、発表日現在の情報です。予告なしに変更されることがありますので、あらかじめご了承ください。最新のお問い合わせ先は、東芝全体のお問い合わせ一覧をご覧下さい。

▲プレスリリースのトップへ

東芝トップページ 個人情報保護方針 Copyright