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最先端システムLSI製造棟の第2期分クリーンルーム内装完成について

2001年6月20日

東芝 大分工場 アネックス棟

 当社は、システムLSIの生産拠点である大分工場において、0.18μmを中心とする最先端システムLSIに対応する新製造棟(アネックス棟)の第2期分クリーンルーム内装を完成しました。

 アネックス棟は最先端システムLSIに必要とされる多層配線工程専用の製造棟で、2000年6月に着工、2001年4月に第1期分が本格稼動を開始しました。 当社は、第2期分として2000年度に追加投資約200億円で内装及び設備の発注を実施しており、この度、スペース効率を30%向上した完全ボールルーム構造と局所クリーン化を可能とするSMIFシステムを導入したクリーンルームの内装が終了しました。 今後下期にかけて、本クリーンルームに銅配線設備を含めた最先端システムLSI製造ラインの増強を行なっていきます。

 銅配線は、LSIの微細化、高性能化の要求のなかで登場した新技術で、低抵抗のため配線遅延による影響を削減でき、アルミ配線に比べ約30%高速化が可能と言われています。 アネックス棟には、当社で初めての銅配線対応が可能な設備を導入し、2001年度末から銅配線を導入した製品を出荷する予定です。

 新製造棟への第2期分までの総投資額はソニー・コンピュータエンタテインメントの投資分も含めて総額845億円となり、その生産能力は月産27,500枚(8インチウェーハ)になります。 なお、新棟のフル稼動時にはアネックス棟建設前の最先端ラインの生産能力の3倍である月産35,000枚まで拡大していきます。

SMIF:Standard Integrated Mechanical Interface

新製造棟の概要

名  称アネックス棟
建家面積16,000m2
延床面積32,200m2(クリーンルーム面積 10,000m2
建物完成2001年1月

大分工場の概要

敷地面積約354,000m2
建物面積約203,000m2
従業員数約3,600人
工場長名室町 正志(むろまち まさし)


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