世界最高精度の半導体露光フォーカス測定技術の外販について 2004年1月7日
当社は、半導体露光装置のフォーカス誤差を従来の1/10に抑え、ウエハーにパターンを正確に焼き付けることができる、世界最高精度のフォーカス測定方法と測定用マスクに関する技術の外販を行います。 微細な回路パターンをウエハー上に焼き付けるには、露光装置のフォーカス精度が重要な要素となりますが、従来は、マスク通過時に光を分解し切れずに散乱し、レンズに起因する収差の影響を大きく受けるため、フォーカスの誤差が少なくとも30nm程度発生する問題がありました。 本技術の特徴は、測定用マスクに光を2方向に分岐させる回折格子を作り、通過した光の干渉で結像するパターンが、フォーカスのずれと同期して左右どちらかに動くことにあります。
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