D. LSI・ストレージ
LSI・ストレージ技術と新しい材料・デバイス技術の深耕
研究開発センター パンフレットより
- SSDシステム
- HDD再生ヘッド用ナノコンタクトMR
- HDD再生ヘッド用スピントルクデバイス
- ナノカーボン配線技術
- 高精度プラズマ制御技術
- 歪シリコン立体構造(ナノワイヤー)トランジスタ
- ビットパターンドメディア
- EUVL技術
- MRAM技術
東芝レビュー2012年3月号「2011年の技術成果」より
- 2.5Tビット/in2を実現するナノコンタクトMR再生ヘッド
- スピントルク発振型磁気ヘッドの動作原理を実証
- 超低消費電力LSI向け ナノワイヤトランジスタにおける特性ばらつき低減
- 低消費電力メモリ及びロジックIC向け スピンMOSFET技術
- 自己組織化リソグラフィのパターン配向性形成技術
東芝レビュー2011年3月号「2010年の技術成果」より
- シリコン ナノワイヤトランジスタの寄生抵抗低減技術
- SSRMによるナノLSIデバイス故障モードの解明と歩留まりの向上
- トランジスタの特性ばらつきを予測する3次元シミュレータ
- 5Tビット/in2再生ヘッドの見積もり
- 極微細配線の抵抗シミュレーション技術
- 次世代携帯電話向け高耐電力RF-MEMS可変容量デバイス
- 半導体配線用超高密度CNT成長技術
- 次世代記録ヘッド用磁極の加工
東芝レビュー2010年3月号「2009年の技術成果」より
- 1.2 kV級低損失SiCパワー MOSFET
- High-k/Ge MISFET向け 新規界面層形成技術
- 再構成可能なLSIを実現するSiスピンMOSFETの動作を実証
- 実動作時の負バイアス温度不安定性の高精度寿命予測手法
東芝レビュー2009年3月号「2008年の技術成果」より
- 二重障壁を用いた10 nm-SONOS型メモリ素子
- 高速・低消費電力LSI向けの低抵抗電極
- LaAlO系higher-κゲート絶縁膜によるしきい値電圧制御の組成網羅的検証
- ナノ磁壁による新原理の磁気抵抗効果
- 立体構造トランジスタの3次元ひずみエンジニアリング技術
- 垂直磁化方式スピン注入型の低消費電力・大容量MRAM
東芝レビュー2008年3月号「2007年の技術成果」より

