CAD ＆ TEST技術 世界最先端のマスクデータ作成技術と評価技術により、 LSIの微細化・大規模化の進展に貢献します。 　Subwavelength時代の半導体製造にかかせないOPC、PSMといった超解像(RET)技術向けをはじめ、最先端の技術と世界最高レベルのコンピュータ環境を駆使し、あらゆるニーズに対応したマスクデータ作成のソリューションを提供します。 　また、LSI評価においてLSIテスタの能力を最大限に発揮させ効率的なテストを行うための評価技術とコンピュータで自動的にテスト用データを作成するCAT技術、そして発生した製品不良の故障箇所を早期特定する故障解析技術を提供します。 CAD技術 ●マスクデータ作成 ●MDP技術 ●超解像CAD技術 ●コンピュータ利用環境 評価技術 ●CATシステム ●CIMシステム ●LSIテスタ応用技術 ●テストパッケージ ●LSI故障診断／解析 マスク設計 OPC処理 故障箇所の特定   ▲このページのトップへ