当社は、高精細化への対応とともに部品点数の削減による信頼性向上が図れる次世代の液晶表示装置（ＬＣＤ）として、 １２．１型（対角３１センチメートル）、１０２４７６８画素（ＸＧＡ）と大型・高精細な画面を実現した低温ポリシリコンＬＣＤを開発しました。
　１２．１型という大画面を持ち、量産可能な低温ポリシリコンＬＣＤの開発は世界で初めてです。

　今回開発した低温ポリシリコンＬＣＤは、基板がシリコン多結晶で形成されているもので、 従来からのアモルファス（非晶質）シリコンに比べ電子の移動度が高く、 液晶画面を制御する周辺回路を外付けすることなく基板上に直接形成することができるという特長を有しています。 このため、部品点数を従来に比べ約４０％、接続ピン数では約２０分の１に削減でき、 製品信頼性の向上が図れます。
　また、周辺回路の基板上への直接形成により、配線間隔を微細化できるため、 今後さらに進む画面の高精細化への対応が容易です。

　当社は、従来からのアモルファスシリコンＬＣＤの生産に付加する工程数を抑えることによって、 次世代の低温ポリシリコンＬＣＤの量産化を可能にしました。

　当社は、９７年４月にＬＣＤの最先端の研究開発を行う「液晶開発センター」を深谷電子工場内に設置するとともに、 低温ポリシリコンＬＣＤの試作、量産技術の検証などを行う量産試作ラインを９７年７月から稼働させています。

　今回さらに、次世代ＬＣＤの量産ラインを深谷電子工場（工場長：下間　武敏（しもま　たけとし）埼玉県深谷市幡羅町１－９－２）内に導入します。 量産ラインを導入する新しいクリーンルームの建設は本年１１月から着工し、 ９８年末から稼働する計画です。

新製品の主な仕様