東芝　大分工場　アネックス棟

　アネックス棟は最先端システムＬＳＩに必要とされる多層配線工程専用の製造棟で、２０００年６月に着工、２００１年４月に第１期分が本格稼動を開始しました。 当社は、第２期分として２０００年度に追加投資約２００億円で内装及び設備の発注を実施しており、この度、スペース効率を３０％向上した完全ボールルーム構造と局所クリーン化を可能とするＳＭＩＦ^＊システムを導入したクリーンルームの内装が終了しました。 今後下期にかけて、本クリーンルームに銅配線設備を含めた最先端システムＬＳＩ製造ラインの増強を行なっていきます。

　銅配線は、ＬＳＩの微細化、高性能化の要求のなかで登場した新技術で、低抵抗のため配線遅延による影響を削減でき、アルミ配線に比べ約３０％高速化が可能と言われています。 アネックス棟には、当社で初めての銅配線対応が可能な設備を導入し、２００１年度末から銅配線を導入した製品を出荷する予定です。

　新製造棟への第２期分までの総投資額はソニー・コンピュータエンタテインメントの投資分も含めて総額８４５億円となり、その生産能力は月産２７，５００枚（８インチウェーハ）になります。 なお、新棟のフル稼動時にはアネックス棟建設前の最先端ラインの生産能力の３倍である月産３５，０００枚まで拡大していきます。

新製造棟の概要

大分工場の概要